1. 压合一次后钻孔==》外面再压一次铜箔==》再镭射--------》一阶
2.压合一次后钻孔==》外面再压一次铜箔==》再镭射,钻孔==》外层再压一次铜箔==》再镭射-------》二阶。
首要就是看你镭射的次数是几回,就是几阶了。 下面简略介绍一下PCB电路板的HDI流程。
电子产品向着轻、薄、短、小型化打开,相应的印制电路板也面临高精度、细线化、高密度的应战。全球商场印制 板的趋势是在高密度互连产品中引进盲埋孔电路板,然后更有用的节省空间,使线宽、线间隔更细更窄。
一.HDI电路板定义
HDI:high Density interconnection的简称,高密度互连电路板,非机械钻孔,微盲孔孔环在6mil以下,内外层层间布线线宽/线隙在4mil以下,焊盘直径不大于0.35mm的增层法多层板制造方 式称之为HDI电路板。
盲孔:Blind via的简称,完结内层与外层之间的联接导通埋孔:Buried via的简称,完结内层与内层之间的联接导通盲进孔大都是直径为0.05mm~0.15mm的小孔,埋盲孔成孔方法有激光成孔,等离子 蚀孔和光致成孔,一般选用激光成孔,而激光成孔又分为CO2和YAG紫外激光机(UV)。
二.HDI电路板板料1.HDI电路板板料有RCC,LDPE,FR41)RCC:Resin coated copper的简称,涂树脂铜箔。RCC是由外表经粗化、耐热、防氧化等处理的铜箔和树脂组成的,其结构如下图所示:(厚度>4mil时使 用)RCC的树脂层,具有与FR-4粘结片(Prepreg)相同的工艺性。此外还要满意积层法多层板的有关功用要求:
(1)高绝缘可靠性和微导通孔可靠性;
(2)高玻璃化转变温度(Tg);
(3)低介电常数和低吸水率;
(4)对铜箔有较高的粘和强度;
(5)固化后绝缘层厚度均匀一起,因为RCC是一种无玻璃纤维的新式产品,有利于激光、等离子体的蚀孔处理,有利于多层电路板的轻量化和薄型化。 另外,涂树脂铜箔具有12pm,18pm等薄铜箔,简略加工。
FR4板料:厚度<=4mil时运用。运用PP时一般选用1080, 尽量不要运用到2116的PP2. 铜箔要求:当客户无要求时,基板上铜箔在传 统PCB内层优先选用1 OZ,HDI板优先运用HOZ,内外电镀层铜箔优先运用1/3 OZ。
三.镭射成孔:
CO2及YAG UV激光成孔镭射成孔的原理:镭射光是当“射线”遭到外来的影响,而增大能量下所激起的一种强力光束,其间红外光或可见光者拥有热能,紫外光则另具有化学能。
射到工作物外表时会发生反射(Refliction)吸收(Absorption)及穿透(Transmission)等三种现象,其间只有被吸收者才会发生效果。而其对板材所产生的效果又分为光热烧蚀与 光化裂蚀两种不同的反响。1.YAG的UV激光成孔:能够调集细微的光束,且铜箔吸收率比较高,能够除去铜箔,可烧至4mil以下的微盲孔,与CO2激光成孔在孔底会残留树脂比较其孔底底子不会残留有树脂,但却简略伤孔底的铜箔,单个脉冲的能量很少,加工功率低。(YAG、UV:波长:355的,波长恰当短,能够加工很小的孔,能够被树脂和铜一起吸)不需要专门的开窗工艺2.CO2激光成孔:选用红外线的CO2镭射 机,CO2不能被铜吸收,但能吸收树脂和玻璃纤维,一般4~6mil的微盲孔。
其成孔方法如下:
A. 开铜窗法Conformal Mask是在内层Core板上先压RCC然后开铜窗,再以镭射光烧除窗内的基材即可完结微盲孔。详情是先做FR-4的内层中心板,使其双面具有已黑化的线路与靶标(Target Pad), 然后再压合,接着依据蚀铜窗菲林去除盲孔方位对应铜皮再利用CO2镭射光烧掉窗内的树脂,即可挖空到底垫而成微盲孔。(铜窗与盲孔大小共同)此法原为“日立制造所”的专利,一般业者若要出 货到日本商场时,可能要当心法律问题。
B. 开大铜窗法Large Conformal mask所谓“开大窗法”是将铜窗扩大到比盲孔单边大1mil左右。一般若孔径为6mil时,其大窗口可开到8mil。我司选用此方法作业。
四.镭射钻孔盲埋孔作业流程以1+2+1作例说明
制造流程:开料----开大铜窗----钻L2~L3埋孔-----除胶渣------电镀埋孔------树脂塞孔-----内层图形-----压合------L1-2&L4-3层 Large Windows(铜窗比盲孔孔径单边大1mil)(蚀刻)----- -- L1-2&L4-3层 镭射钻盲孔-------除胶渣两次-------电镀盲孔(脉冲电镀)------树脂塞孔-------磨板+减铜------机械钻通孔-----正常流程2+4+2流程开料→L3~6层图形→压合→开大铜窗 →L23&L76层Laser埋孔→L26机械钻孔→除胶渣→电镀埋孔→树脂塞孔-----L2。